وبلاگ شخصی سید سعید میرقاسمی

وبلاگ شخصی سید سعید میرقاسمی

اینجانب سید سعید میرقاسمی فارغ التحصیل ارشد الکترونیک قدرت دانشگاه صنعتی شریف می باشم.
به موضوعات تکنولوژی و انرژی علاقمندم.
خوشحال می شوم با نظرات ارزنده ی خود اینجانب را راهنمایی کنید.
ایمیل اینجانب:
ss.mirghasemi@yahoo.com

دنیای میکروسکوپی برق

يكشنبه, ۲۱ خرداد ۱۳۹۱، ۰۷:۴۹ ب.ظ

تصویر کانفوکال از دستگاه حسگر(CCD) ،مضاهده ی مستقیم سطح،1000x


 



TFT computer screen with covers removed to reveal transistors

 (150x)




Subject Matter:

Surface of electronic chip

 (10x)
Technique:

Differential Interference Contrast


Subject Matter:

Electronic chip surface

 (10x)
Technique:

Epi, DICBrightfield







Micropillar with Pt Bridges

A micropillar is provided with lateral contacts in order to generate an in-plane electrical field inside the cavity. The contacts are formed by focused ion beam induced deposition of platinum between a gold layer and the micropillar. The image was colorized (Pt: blue, Au: yellow, micropillar: red).

Courtesy of Johannes Beetz

Image Details
Instrument used: Helios NanoLab Family
Magnification: 5000
Voltage: 3 kV
Working Distance: 4.2
Detector: SE




Micropillar with Pt Bridges (Image 2)

A micropillar is provided with lateral contacts in order to generate an in-plane electrical field inside the cavity. The contacts are formed by focused ion beam induced deposition of platinum between a gold layer and the micropillar. The image was colorized (Pt: blue, Au: yellow, micropillar: red).

Courtesy of Johannes Beetz

Image Details
Instrument used: Helios NanoLab Family
Magnification: 5000
Voltage: 15 kV
Working Distance: 4.2
Detector: SE



Electrostatic Discharge damages on a MOS transistor Gate

These Silicon filaments are the consequence of an ESD (Electrostatic Discharge) stress applied on a MOS Polysilicon Gate. By creating a Gate leakage, they are responsible of the electronic component failure.

Courtesy of Julien Goxe

Image Details
Instrument used: Nova NanoSEM Family
Magnification: 192000 X
Horizontal Field Width: 1.55 µm
Voltage: 10 kV
Spot: 3.0
Working Distance: 4.9
Detector: SE TLD



On the process side of things, a SEM cross section reveals the contacted gate pitch and metal gates consistent with Samsung’s 32 nm HKMG process.
Samsung 32 nm HKMG Process in the A6X

Samsung 32 nm HKMG Process in the A6X

Samsung 32 nm HKMG Process in the A5

Samsung 32 nm HKMG Process in the A5




MEMs  Gyroscope

The STMicroelectronics L3G4200D is another MEMS device  in the iPhone 4s that was previously found in the iPad 2 as well. Additionally, this device was catalogued in the iPhone 4.  The L3G4200D is a low-power three-axis angular rate sensor able to provide unprecedented stability of zero rate level and sensitivity over temperature and time (www.st.com).




سی پی یو اینتل


  • موافقین ۰ مخالفین ۰
  • ۹۱/۰۳/۲۱
  • ۶۸۸ نمایش
  • سید سعید میرقاسمی

نظرات (۰)

هیچ نظری هنوز ثبت نشده است
ارسال نظر آزاد است، اما اگر قبلا در بیان ثبت نام کرده اید می توانید ابتدا وارد شوید.
شما میتوانید از این تگهای html استفاده کنید:
<b> یا <strong>، <em> یا <i>، <u>، <strike> یا <s>، <sup>، <sub>، <blockquote>، <code>، <pre>، <hr>، <br>، <p>، <a href="" title="">، <span style="">، <div align="">
تجدید کد امنیتی